流程

Unity - Window - Rendering - Lighting。
设置 Lighting Settings Asset 或者生成新的 Lighting Settings Asset。
设置烘焙物体为 Static，
设置光源模式为 Bake 或者 Mixed。
选择最下方的 Generate Lighting。
Lighting Mode 选择 Subtractive

光照探针

创建一个携带有光照探针组件的物体
在光照探针覆盖的区域内放一个平面充当镜子（mirror），创建一个标准着色器给 mirror，然后调整着色器的参数 MetalIC 和 Smoothness 为 1.
在镜子的前面摆放一些简单的 Cube 查看效果。

反射探针

前向渲染中的光处理

一定数目的光源会按照逐像素的方式进行处理，
场景中最多有 4 个光源按照逐顶点的方式处理

一些烘焙相关的操作点

烘焙完成后觉得效果不好，然后发现调整场景中的物体没有实时反应，这个是因为此时静态物体已经带有了光照信息，打开 Lighting 设置，选择 Baked Lightmaps，然后删除 Lighting Data Asset 即可。
Lighting Data Asset 保存了场景中烘焙物体在光照贴图上的信息，如果想在其他场景中烘焙好，然后在新的场景里面加载，只需要把 Lighting Data Asset 做过的事情再做一遍即可，参考链接 https://github.com/Ayfel/PrefabLightmapping

一些参数含义

Directional Mode

光照贴图有两种 Directional Mode。

定向和非定向(Lightmap 和 Directional Lightmap )。两种模式都与来自 Unity 的 Enlighten Realtime Global Illumination 的实时光照贴图兼容系统，以及来自 Unity 的 Progressive Lightmapper 的烘焙光照贴图。
默认模式是定向的。

烘焙光照贴图时，Unity 会生成两个光照贴图纹理。

一个纹理存储有关在目标表面上接收到的光照强度和颜色的信息。（无论 Directional Mode 是什么都会生成，Texture Type 为 LightMap）
另一个纹理存储主光方向，以及一个描述接收到的总光中有多少来自该主方向的因子。（Directional Mode 为 Directional 时才会生成，Texture Type 为 Directional LightMap）

Lighting Mode

光照模式决定了所有场景中所有混合光的行为。

Baked Indirect 结合了实时直接光照和烘焙间接光照。它提供实时阴影。此照明模式提供逼真的照明和合理的阴影保真度，适用于中档硬件。
Shadowmask 将实时直接光照与烘焙间接光照相结合。它为远处的游戏对象启用烘焙阴影，并自动将它们与实时阴影混合。它是最真实的，也是最耗费资源的光照模式。您可以使用质量设置来配置其性能和视觉保真度。此照明模式适用于高端或中端硬件。
Subtractive 提供烘焙的直接和间接照明。它只为一个定向光渲染直接实时阴影。这种光照模式不提供特别逼真的光照效果，适用于风格化的艺术或低端硬件。

Lightmapping Settings 参数解释

Multiple Importance Sampling

启用它以使用多重重要性采样对环境进行采样。这通常会在生成光照贴图时导致更快的收敛，但会在某些低频环境中导致噪声更大的结果。默认情况下禁用。

Direct Samples

从每个纹素拍摄的样本（路径）数量。此设置控制 Progressive Lightmapper 用于直接照明计算的样本数。增加该值可以提高光照贴图的质量，但会增加烘焙时间。

Indirect Samples

从每个纹素拍摄的样本（路径）数量。此设置控制 Progressive Lightmapper 用于间接照明计算的样本数。对于某些场景，尤其是室外场景，100 个样本应该足够了。对于具有自发光几何体的室内场景，增加该值直到看到您想要的结果。

Environment Samples

Environment Samples 属性确定 Unity 向天空盒发射以直接收集光线的环境光线总数。 Unity 根据上下文从光照贴图纹素或光探针位置发射这些光线。默认值为 500。较高的值可能会产生更平滑的结果，但会增加烘焙时间。

在具有 HDR 天空盒的场景中，通常需要更多样本来减少最终光照贴图或探测器中的噪点。具有包含明亮奇点（例如太阳）或具有显着对比度的高频细节（例如背光云）的天空盒的场景也受益于更多的样本。

Light Probe Sample Multiplier

控制有多少样本用于光照探测器，作为上述样本值的乘数。较高的值会提高光照探针的质量，但烘烤它们的时间会更长。要启用此功能，请转到 Project Settings > Editor 并禁用 Use legacy Light Probe sample counts。默认值为 4。

Bounces

使用此值指定跟踪路径时要执行的间接反弹数。对于大多数场景，两次反弹就足够了。对于某些室内场景，可能需要更多的反弹。

Min Bounces

您愿意让 Progressive Lightmapper 包含在间接光照计算中的最小反弹次数。

较低的值会减少烘焙时间，但可能会增加光照贴图噪点。为了提高烘焙期间的性能，Lightmapper 使用一种称为 Russian Roulette 的技术终止对场景外观影响不大的光路。

默认值：2。范围：0–100

Max Bounces

您希望 Progressive Lightmapper 在间接光照计算中包含的最大反弹次数。

默认值：2。范围：0–100。

最多 10 个值适用于大多数场景。高于 10 的值可能会导致烘烤时间显着延长。

每次反弹都会增加烘焙场景所需的计算资源。对室内场景使用较高的反弹值，对室外场景和具有许多明亮表面的场景使用较低的反弹值。

随着 Min Bounces 和 Max Bounces 之间的范围变宽，光照贴图中可见的噪点数量会增加。

Filtering

配置 Progressive Lightmapper 对光照贴图应用后处理以限制噪点的方式。对于光照贴图后处理，光照贴图被分成直接、间接和环境光遮挡目标，Unity 分别对其应用后处理，然后再将它们合成为单个光照贴图。

None

选择此选项可不对光照贴图使用过滤器或去噪。

Auto

选择此选项以使用依赖于平台的预设来对光照贴图进行后期处理。
如果您的开发机器满足运行 OptiX（NVIDIA OptiX AI 加速降噪器）的要求，则 Progressive Lightmapper 会使用降噪器和高斯滤波器，所有目标的半径为 1-texel。
如果您的开发机器无法运行 OptiX，Progressive Lightmapper 使用高斯滤镜，该滤镜具有 1 个纹素半径用于直接，5 个纹素半径用于间接，2 个纹素半径用于环境遮挡。

Advanced

选择 Advanced 为每种类型的光照贴图目标手动配置选项。目标类型是 Direct、Indirect 和 Ambient Occlusion.

Direct：任何直接从光源到达传感器（通常是相机）的光。
Indirect：从光源间接到达传感器的任何光。这最常适用于从其他游戏对象反射的光。
Ambient Occlusion：照明系统计算的任何环境光。

Denoiser

选择用于光照贴图目标的降噪器。

Optix：NVIDIA Optix 降噪器是一种 AI 加速降噪器，可减少烘焙光照贴图中的噪点。它需要具有 4GB+ VRAM 和驱动程序版本 390+ 的 NVIDIA GPU，并且仅在 Windows 平台上受支持。
RadeonPro：RadeonPro 降噪器是一种 AI 加速降噪器，可减少烘焙光照贴图中的噪点。它需要一个具有 4GB+ VRAM 的支持 OpenCL 的 GPU。
OpenImageDenoise：英特尔开放图像降噪器是一种 AI 加速降噪器，可减少烘焙光照贴图中的噪点。- 无：不使用降噪器。

Filter

选择用于光照贴图目标的滤镜：

Gaussian：选择此选项可为光照贴图目标使用高斯过滤器。高斯滤镜在光照贴图上应用双边高斯滤镜。这会模糊光照贴图并减少可见噪声。
A-Trous：选择此选项可为光照贴图目标使用 A-Trous 滤镜。 A-Trous 滤镜可最大限度地减少模糊量，同时消除光照贴图中的可见噪点。
None：选择此选项可禁用光照贴图目标的所有过滤。

Radius

此选项仅在 Filter 设置为 Gaussian 时可用。使用 Radius 值以纹素为单位设置高斯滤波器内核的半径。较高的半径会增加模糊强度并减少可察觉的噪点，但可能会导致细节在照明中丢失。

Sigma

此选项仅在过滤器设置为 A-Trous 时可用。使用 Sigma 值调整保留细节或模糊照明的程度。较高的 Sigma 会增加模糊强度并减少可察觉的噪点，但可能会导致细节在照明中丢失。

被烘焙的条件

携带一个 Mesh Renderer 或者 Terrain 组件
标记为向 GI 贡献
使用 bulit-in 材质，或者 Standard Shader，或者使用一个携带 Meta Pass 的 Shader。

烘焙完成后 Unity 会添加 LightingData Assets、Baked Lightmaps 和 Reflection Probes 到 Assets 文件夹中。

可能遇到的问题

某个墙面的背面大片的黑暗区域

在烘焙中最常见到的就是背面死黑的问题，这是因为设置错误的烘焙设置导致的。

在 URP 中，如果用官方的 Lit 来烘焙的话，可以看到有一个的设置，如下。
在这里把 Render Face 从 Front 改为 Both，就可以烘焙双面了。

模型有漏光

一般是因为 UV 有问题，需要进行设置 UV 或者重新制作一套专门用于烘焙的 UV。